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超臨界清洗裝置

操控簡單、維護方便；工藝精細、靈活拓展；更好用，更安全。

用于印刷電路板、晶圓、電子元器件，有效去除焊料殘留、助焊劑、顆粒物等污染物；芯片制造封裝過程，高效清除芯片表面的塵埃、金屬顆粒、有機物殘留等雜質(zhì)；光學(xué)鏡頭、棱鏡、濾光片等光學(xué)元件，去除沾染的油脂、灰塵、顆粒物等污染物；微型手術(shù)器械、醫(yī)用傳感器等精密醫(yī)療器械清洗，以及同種異體骨、組織神經(jīng)清洗；出土文物保護工作，在無損前提下凈化文物；催化劑再生，助力清除催化劑表面的積炭、毒物及雜質(zhì)，恢復(fù)活性；核反應(yīng)設(shè)備零部件清洗，實現(xiàn)污染減量化；精密工裝清洗，清理復(fù)雜零部件微縫微孔中殘留的污染物；高檔服裝服飾織物清洗，包括嬰幼兒衣物、女性貼身衣物、貴重飾物清洗等。適用于大學(xué)、科研院所、企業(yè)實驗室、研究中心等單位機構(gòu)。

功能體驗

  • 更好用：將27年所積累的各種物料超臨界清洗應(yīng)用工藝研發(fā)經(jīng)驗融入裝置設(shè)計，助您輕松實現(xiàn)各種創(chuàng)想；
  • 更安全：各參數(shù)關(guān)鍵點均并行設(shè)置多重獨立安全防護，高低搭配、“軟硬”結(jié)合；
  • 直接觀察清洗過程中樣品狀況，及時調(diào)整工藝參數(shù)，準確把握清洗進程；
  • 人性化操控界面，參數(shù)設(shè)定后全自動控制；
  • 精密注入，精密泄壓，工藝優(yōu)化手段更豐富，數(shù)據(jù)更精準；無損樣品、成功率更高；
  • 手感輕松，密封可靠，人員觀察、操作和維護時肢體角度舒適，減少科研人員的身體疲勞或損傷，保障工作效能；
  • 更全面掌握工藝流程各關(guān)鍵節(jié)點的運行參數(shù)，對結(jié)果的調(diào)整優(yōu)化手段更加多元，測控數(shù)據(jù)準確真實有效，結(jié)果重現(xiàn)性好，指導(dǎo)成果轉(zhuǎn)化和規(guī)?；瘧?yīng)用實施。
  • 模塊化設(shè)計，自由組合，后續(xù)可隨時擴展、改造和升級，擴展適用范圍，增加儀器使用壽命，持續(xù)不斷地為您輸出和創(chuàng)造科研價值；
  • 由卓爾實驗室?提供長期技術(shù)支持，并提供聯(lián)合或協(xié)同研發(fā)服務(wù)。

?配置參數(shù)

  • 最高操作壓力可達30MPa；
  • 最高操作溫度可達80℃；
  • 溫度控制精度：±0.5℃；
  • 根據(jù)不同物料所需清洗工藝，儀器差異化設(shè)計提供；
  • 清洗室腔可選500ml、1000ml、5L、10L、20L，29L，其他容積規(guī)格可定制；
  • 清洗釜結(jié)構(gòu)及工藝管路針對不同清洗物料差異化設(shè)計；
  • 超臨界清洗工藝過程控制和安全防護系統(tǒng)；
  • 程序設(shè)定、一鍵啟動全自動清洗、遠程數(shù)據(jù)傳輸監(jiān)控；
  • 藍寶石視窗（選配）；
  • 輔助攪拌系統(tǒng)轉(zhuǎn)速0～2000轉(zhuǎn)/min，其他轉(zhuǎn)速可定制（選配）；
  • 電子背壓控制（選配）；
  • 質(zhì)量流量計（選配）。

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